时间：2023年3月2日上午9点
地点：上海理工大学新光电楼502多功能厅（大楼东侧）
题目：高功率深紫外（真空紫外）固体激光
摘要：高功率、高相干性的193nm激光在干涉光刻制程、激光加工等方面有着重要的应用。使用高相干性的固体激光，作为种子注入ArF准分子激光放大器中，可在193nm波长处同时获得高功率及高相干性。报告中，将介绍高平均功率193nm固体激光及ArF准分子激光放大的研究及应用结果；同时，也将简要介绍所参与研发的面向加速器应用的深紫外到中红外激光。
报告人简介：
玄洪文，研究员，中国科学院大学硕士生导师，中科院“百人计划”引进人才，广东大湾区空天信息研究院课题组组长。山东大学光信息科学与技术专业毕业（2006），北京理工大学光学工程硕士（2008）,中国科学院物理研究所理学博士(2012)。
2012年10月至2017年3月，日本东京大学物性研究所特任研究员。在东京大学工作期间，从事光纤激光、Yb：YAG固体激光及非线性光学频率变换研究。面向干涉光刻、激光加工等应用，在深紫外258nm 及193nm等波长产生方面，取得了创新性的成果（10W@258nm,1W@193nm），其研发的固体193nm激光种子已应用于Gigaphoton的混合ArF准分子放大器原型样机。2017年6月至2019年12月，任职德国汉堡大学/德国电子加速器中心（DESY），主要参与芯片加速器（ ACHIP）项目，负责激光加速用2μm超快激光开发；同时参与European XFEL光电阴极激光、FLASH1&FLASH2泵浦-探测激光的开发及日常运行维护。目前主要研究方向为超快激光技术、 高平均功率深紫外（真空紫外）激光、高功率/大能量太赫兹辐射产生、传输等。
